台积电传来消息，事关EUV光刻机、5nm、2nm芯片，行情变了
芯片生产制造需要光刻机，尤其是先进制程的芯片，像7nm及以下制程的芯片，更是离不开先进的EUV光刻机。 1月4日，据悉，台积电最先量产7nm芯片，但采用的是DUV光刻机，EUV光刻机上市后，台积电就推出了7nm EUV工艺，全面采用EUV光刻机生产制造7nm芯片。 这是因为用DUV光刻机生产制造7nm芯片成本高、工艺复杂，而使用EUV光刻机就简单很多，所以EUV光刻机上市后，各大芯片企
台积电
芯闻路1号 . 2022-01-04 1 2997
EUV光刻机+172层3D NAND，2022存储业新赛道攻略
2021年，全球存储器市场先扬后抑，前三个季度内存价格一路攀升，第四季度却转为供过于求，价格开始下跌。2022年，随着三大原厂对EUV的应用将进一步增加，DRAM的成本构成逐步改变，NAND闪存也将进入172层时代，存储器的市场形态或将展现出一些新的特征。 长短料效应明显，存储器或将供过于求 2021年，在5G商用以及新冠肺炎疫情所催生“宅经济”的影响下，市场对芯片的需求持
3D NAND
互联网 . 2021-12-14 2855
EUV产量到位了，是不是也该考虑良率了？
EUV产量到位了，是不是也该考虑良率了？ 在当前的半导体制程不断往7nm以下发展时，EUV光刻机就成了IDM和代工厂必不可少的工具之一。随着台积电、三星、英特尔和SK海力士等企业的EUV光刻机纷纷到位，这些顶级半导体制造厂商和EUV光刻机的唯一制造者ASML还有另一个问题需要担心，那就是光罩防尘膜。 90%透射率这道坎 光刻机防尘膜 / 三井化学 光罩防尘膜是一种透明的薄膜，主要用于保护昂贵的光罩
三星电子
电子发烧友原创 . 2021-07-22 1297
受旅游限制 ASML延迟向中国客户交付EUV光刻机
4月1日消息，有媒体报道，中国厂商向ASML订购的先进光刻机一而再的被阻碍，ASML对外表示：受到疫情的影响，公司提供给武汉以及其他地区客户的EUV设备出货，均受到了影响，同时公司的供应链出现了问题，目前已经解决。 向ASML订购EUV光刻机的中国芯片厂商应该就是中芯国际，早在1月份与去年11月份，ASML就因为延迟出货而被质疑。 今年1月份，ASML CEO对外表示，已经向荷兰政府提交了中国客户
ASML
泡泡网 . 2020-04-01 1400
ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻，成本能占到整个生产过程的1/3，光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备，没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机，每台售价超过1亿美元，而且供不应求。 2019年，台积电、三星都会开始量产7nm EUV工艺，现有的EUV光刻机也差不多成熟了，虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如，不过已经能够稳定量产了，7nm及明年的5nm节
半导体
陈年丽 . 2019-08-07 1425
动态 | 阿斯麦发布Q2财报:EUV光刻机产能大增
掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。 在Q2季度中，ASML公司获得了10台EUV光刻机订单，而且这些订单不只是用于逻辑半导体工艺，还首次用于存储芯片——在此之前，三星表示将在未来的内存芯片生产中使用EUV光刻机，ASML的存储芯片订
ASML
YXQ . 2019-07-23 1055
美光表示：EUV光刻机在DRAM芯片制造上不是必须的，直到1α及1β工艺上都也不会用到它
今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺，第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺，二代7nm才会上EUV光刻工艺，预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV工艺？在美光看来，EUV光刻工艺并不是DRAM芯片必须的，未来几年内都用不上，在新一代工艺上他们正在交由客户验证1Y nm内存芯片，未来还有1Z、1α及1β工艺。 内存跟CPU等芯片虽然都是集成电路，生产
三星
网络整理 . 2018-06-07 1365
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