Lam Research推出支持GAA结构晶体管的高选择性蚀刻产品系列
据韩媒报道，Lam Research发布了支持下一代晶体管GAA（Gate-All-Around）结构的高选择性蚀刻产品系列，且该设备已经被引入三星电子最先进的3nm GAA工艺。据悉，该设备由Lam Research韩国生产基地负责生产。 GAA结构与现有的FinFET结构相比，具有良好的电流控制能力和高功率效率。但是，其中的薄膜质量要求在工艺过程中不应变形或损坏因此需要非常高的技术，例
Lam Research
中国闪存市场 . 2022-02-11 959
e世绘︱一份台积电的预测，让这些半导体设备厂商的2017年充满悬念？
台积电是全球规模最大的纯代工厂，最近降低了公司 2017 年代工业务的营收预期。 台积电目前正在致力于实现到 2018 年全面使用 EUV 光刻技术生产 7nm 芯片，这将对设备厂商在 2017 年的沉积和蚀刻设备销售造成明显的影响。 台积电估计，整个半导体行业 2017 年的增长率为 7%，明显低于 Gartner 估计的 12.3%，这意味着一些设备厂商的销售情况将进一步恶化。 由于供应链库存
台积电
-- . 2017-04-20 1265
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