中微公司扩充业务产品线，推出12英寸薄膜沉积设备Preforma Uniflex CW
“近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。这是中微公司深耕高端微观加工设备多年、在半导体薄膜沉积领域取得的新突破，也是实现公司业务多元化增长的新动能。 ” 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，）推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LP
中微公司
中微公司 . 2023-05-10 1410
半导体设备拓荆科技上市
4月20日，薄膜沉积设备供应商拓荆科技登陆科创板。本次 IPO，拓荆科技计划募资 10 亿元，将分别用于“高端半导体设备扩产”、“先进半导体设备的技术研发与改进”、“ALD 设备研发与产业化”与“补充流动资金”四个项目。 拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头企业，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列，其产品
上市
芯闻路1号 . 2022-04-20 11 1562
- 1