4月20日，薄膜沉积设备供应商拓荆科技登陆科创板。本次 IPO，拓荆科技计划募资 10 亿元，将分别用于“高端半导体设备扩产”、“先进半导体设备的技术研发与改进”、“ALD 设备研发与产业化”与“补充流动资金”四个项目。
拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头企业，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列，其产品已应用于华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂。
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