• 东进半导体与三星成功开发EUV光刻胶

      12月19日消息,据韩媒报道,东进半导体宣布,近期通过了三星电子的EUV PR(光刻胶)可靠性测试。消息人士称,东进半导体在其位于京畿道华城的工厂开发了EUV PR,并在三星电子华城EUV生产线上对其进行了测试。   EUV PR是2019年日本对韩国的三大限制出口半导体材料之一。目前,韩国已量产用于氟化氪 (KrF) 和氟化氩 (ArF) 工艺的PR,但没有用于可以绘制更精细电路的EUV的P

    东进半导体

    芯闻路1号 . 2021-12-20 2535

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