东进半导体与三星成功开发EUV光刻胶

来源: 芯闻路1号 作者:卡酷星蜥蜴姐 2021-12-20 15:12:16

  12月19日消息,据韩媒报道,东进半导体宣布,近期通过了三星电子的EUV PR(光刻胶)可靠性测试。消息人士称,东进半导体在其位于京畿道华城的工厂开发了EUV PR,并在三星电子华城EUV生产线上对其进行了测试。

  EUV PR是2019年日本对韩国的三大限制出口半导体材料之一。目前,韩国已量产用于氟化氪 (KrF) 和氟化氩 (ArF) 工艺的PR,但没有用于可以绘制更精细电路的EUV的PR,韩国目前使用的EUV PR大部分是从日本进口的。

(图片来源于网络)

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