Fractilia：改善EUV制程随机性误差，助力晶圆厂提高良率
据媒体报道，半导体制造测量方案供货商Fractilia最新表示，随机性误差的测量解决方案可协助半导体晶圆厂在极紫外光（EUV）微影制程中提高良率，避免损失数十亿美元。 Fractilia布局先进半导体制造中随机性误差测量与控制解决方案，应用Fractilia反向线扫描模型（Fractilia Inverse Linescan Model）的专利技术，提供随机性误差测量，目前已获前5大芯片制
Fractilia
中国闪存市场 . 2022-03-30 1846
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