光刻技术进入7nm时代，集成电路掩模产业发展增速明显
伴随集成电路的发展，随之而来的是集成电路光刻技术的发展，光刻技术经历了从最初的接触式光掩模技术起步，到今天的世界最先进光刻技术已经跨越到了 7nm。弹指间，技术变革的脚步始终不变，集成电路也进入了掩模新时代。 掩模产业发展增速显著 我国集成电路产业发展面临着前所未有的新机遇。一方面，我国逐步成为世界上集成电路最大的消费国，另一方面未来几年国内和国际知名企业纷纷登陆中国建设新的晶圆厂。
集成电路
来源：互联网 . 2019-01-11 945
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