微影技术日益精进 半导体工艺持续成长
半导体工业在光学微影技术的帮助下，长期形成持续且快速的成长态势，但光学微影在面对更精密的制程已开始出现应用瓶颈，尤其在小于0.1微米或更精密的制程，必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服… 早期半导体工业在光学微影技术（OpTIcal Lithography）支持下，不仅可以持续改善集成电路的元件特性，单一元件的集积度大幅提升，不仅使制造成本压低，也让产品的性能持续提升，但光学微影技术
微影技术
DIGITIMES . 2014-09-04 970
ASML：预计2015年可发布首款量产型EUV机台
极紫外光（EUV）微影技术将于2015年突破量产瓶颈。传统浸润式微影技术在半导体制程迈入1x纳米节点后将面临物理极限，遂使EUV成为产业明日之星。设备供应商艾司摩尔（ASML）已协同比利时微电子研究中心（IMEC）和重量级晶圆厂，合力改良EUV光源功率与晶圆产出速度，预计2015年可发布首款量产型EUV机台。 ASML亚太区技术行销协理郑国伟提到，ASML虽也同步投入E-Beam基础
微影技术
新电子 . 2013-08-19 1175
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