韩国FST首次供应EUV光罩护膜设备
据etnews报道,韩国FST已供应极紫外(EUV)光罩护膜设备。光罩护膜是用于半导体曝光工艺的材料,最大限度地减少对绘制半导体电路图案的掩膜的损坏。EUV对于超精细半导体制造至关重要,并且光罩护膜在EUV工艺中的使用正在增加。EUV工艺中使用韩国产材料、零部件或设备的情况极为罕见,但FST成功迈出了第一步。 FST公司在7月17日宣布,获得国内半导体制造商的极紫外(EUV)光罩护膜贴合、
快讯
芯闻路1号 . 2023-07-17 1 1950
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据etnews报道,韩国FST已供应极紫外(EUV)光罩护膜设备。光罩护膜是用于半导体曝光工艺的材料,最大限度地减少对绘制半导体电路图案的掩膜的损坏。EUV对于超精细半导体制造至关重要,并且光罩护膜在EUV工艺中的使用正在增加。EUV工艺中使用韩国产材料、零部件或设备的情况极为罕见,但FST成功迈出了第一步。 FST公司在7月17日宣布,获得国内半导体制造商的极紫外(EUV)光罩护膜贴合、
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