• 应用材料新布线技术为3nm工艺做出突破

    应用材料公司说,它已经在芯片布线方面取得了突破,这将使半导体芯片生产小型化到芯片,使电路之间的宽度可以只有30亿分之一米。目前的芯片工厂生产7纳米和5纳米芯片,因此3纳米芯片代表了下一代技术。 这些3纳米生产线将成为造价超过220亿美元的晶圆厂的一部分,但带来的收入也将远超这一数字。该公司表示,芯片布线的突破将使逻辑芯片的扩展至3纳米及以以下。 芯片制造公司可以在其大型工厂中使用布线工具,从5纳米

    半导体

    电子发烧友整合 . 2021-06-21 1282

  • 我们处于EDA融合时代 更多的算法工具涌现

    作者:白山头特在此鸣谢! 本文为《electronicdesignautomaTIonforicimplementaTIoncircuitdesignandprocesstechnology》中相关部分的阅读感想以及个人理解。 随着工艺的发展,netdelay占比显著增加,celldelay占比减少。在现代芯片设计流程中,各个阶段对于后续阶段的delay值的估算越来越失准。而这些因此,促使EDA进

    半导体工艺

    白山头 . 2020-12-24 1060

  • 建立AI芯片新的衡量标准势在必行

    因为人工智能的持续火热,AI芯片在过去几年里如雨后春笋般在全球各地冒出来。这就驱动行业去探索评估AI芯片性能的最优方法。 就如传统的芯片设计师追求PPA、CPU对比MIPS、GPU衡量Pixel和Texture一样,一个好的评估方法能够让开发者可以针对场景进行设计,同时可以指导研发调整优化防线,引导客户进行正确选择,同时能够促进行业有序协同向前发展。 快速提升的AI算法和落后的衡量方法 地平线联合

    cpu

    机器之心 . 2020-10-28 1480

  • 半导体生产过程中的主要设备汇总

    半导体业如此巨大的市场,半导体工艺设备为半导体大规模制造提供制造基础。未来半导体器件的集成化、微型化程度必将更高,功能更强大。以下附送半导体生产过程中的主要设备。 1、单晶炉 设备名称:单晶炉。 设备功能:熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯。 主要企业(品牌): 国际:德国PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUM DESIGN公司

    半导体

    未知 . 2018-05-11 2560

  • SK海力士做晶圆代工,到底瞄准了什么?

    韩记忆体大厂SK海力士周一宣布成立新子公司,旗下晶圆代工业务正式分拆成为独立的事业体,名为SK海力士系统IC公司。 SK海力士系统IC主要专注于晶圆代工业务,服务对象为没有晶圆厂的IC设计商。据SK海力士表示,分拆晶圆代工业务主要目的是想强化这方面的竞争力。(韩联社) 8寸(200mm)晶圆为IC制造主流,也是SK海力士现阶段营运重心,SK海力士计划借此增加能见度、招引更多客户,以填满晶圆代工产能

    半导体工艺

    MoneyDJ . 2017-07-12 1200

  • 10纳米FinFET工艺制程的Exynos8895呼之欲出

    据悉高通会在CES 2017上公开更多骁龙835详细信息,而备选首发机型也基本已经确认,包括小米6、三星Galaxy S8等。不过,在移动芯片领域,高通并不是唯一的参与者,三星同样是最大的半导体厂商之一,不仅为高通代工生产 Snapdragon 835 芯片,自家也有 Exynos 产品线,而三星为明年准备的旗舰芯片正是 Exynos 8895。 有关三星 Exynos 8895 芯片的细节悄然被

    exynos8895

    网站整理 . 2016-12-29 930

  • 揭秘苹果搭载的A9芯片续航差异真相

      最近,多家外媒对两个版本的A9芯片进行了续航方面的测试,发现台积电16nm芯片要比三星14nm芯片续航更长一些,甚至有Reddit用户专门使用Geekbench 3进行了测试,结果发现台积电A9芯片的续航要比三星代工的A9芯片多出近两个小时。不过截止到目前为止,这一测试数据仍然缺乏有力的数据支撑,而且相信接下来苹果还会针对A9处理器进行进一步优化,台积电和三星的A9芯片对决究竟谁赢谁输,现在下

    A9芯片

    网站整理 . 2015-10-09 1620

  • 微影技术日益精进 半导体工艺持续成长

      半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的制程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的制程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服…   早期半导体工业在光学微影技术(OpTIcal Lithography)支持下,不仅可以持续改善集成电路的元件特性,单一元件的集积度大幅提升,不仅使制造成本压低,也让产品的性能持续提升,但光学微影技术

    微影技术

    DIGITIMES . 2014-09-04 900