光刻机作为芯片生产制造过程中的关键设备，全世界对其的需求量都是极大的，目前在光刻机处于霸主地位的就是荷兰的阿斯麦，我国在光刻机方面也有了新的突破，美国和阿斯麦又“坐不住”了。

上海微电子生产新一代光刻机问世

现在世界光刻机企业中一共有四家，除了阿斯麦，我国的上海微电子也占有着一席之地，代表着我国在光刻机领域的研究水平，其生产制造的光刻机在我国的市场中占比达到了80%以上。

最近更是有了新的成长，据悉上海微电子生产的新一代光刻机在技术方面有所突破，属于深紫光光刻机，其精度可以达到阿斯麦DUV光刻机的水准。

结合英特尔和台积电的成果，该精度的DUV光刻机可以用来制造10nm和7nm级别的芯片，上海微电子在光刻机方面的高速发展，一定程度上可以加速我国实现芯片自给率到70%的进程，更主要的是逐渐摆脱西方国家的封锁。

阿斯麦通过降价，提高市场竞争力

我国28nm光刻机即将量产，势必会对该领域的巨头企业阿斯麦造成极大的影响，为此阿斯麦也坐不住了，竟然开始对同精度光刻机进行降价处理。

它的此番决定首先是因为我国作为世界最大的消费市场，对光刻机的需求也是极大的，如果国产光刻机实现量产，凭借其高性价比必然会迅速霸占市场，到时候阿斯麦在全球的市场份额就会呈现下降的趋势。

其次是阿斯麦目前依旧是光刻机技术领域的领头羊，通过降价出售的方式，可以提高它在全世界的市场占比，进而就会对上海微电子的研发实力进行制约，达到稳固地位的效果。

美国又出台针对性政策

阿斯麦通过降价来提高其竞争力，遏制我国企业的发展，美国在近日又开始出台相关的限制性政策，据了解，美国方面今后不再向我国市场出售28nm光刻机，不仅对本国企业进行了明确规定，甚至要求第三方制造商不可以将其设备进行转移。

这样的政策无疑对我国芯片产业的发展造成极大的威胁，尤其是现在世界市场中对于28nm芯片的需求量是最大的，存在严重的供需不平衡的问题，由此也可以知道美方在其中的心机。

虽然美国的相关限制，不利于我国半导体行业的持续性发展，但从另一个角度考虑，正是由于它的约束，我国企业才能不再有依赖心理，对芯片领域的发展更为关注，加大对该领域的研究进度，加快国产设备的生产制造，没有美方的一次次干扰，我国的发展速度可能不会这么快。

结语

我国在该领域的发展即使举步维艰，但现在上海微电子生产制造的光刻机，将会在2021年年末的时候完成交付，其未来的发展之路还是非常值得期待的。