最近中科院宣布了好消息，是关国产光刻机。其旗下的上海光学机械研究所已经成功攻克了能够适用于euv光刻机设备的opc技术。

国产光刻机的一众成就

我们都知道，传统芯片的发展是严格遵循摩尔定律的，如今芯片已经无限接近摩尔定律的物理极限。硅材料，芯片制造技术以及设备硬件基本上没有可以再提升的余地，但是这种opc技术将会实现摩尔定律的延续，能够在硬件不变的条件下，优化光刻设备的照明度，提高光刻机的分辨率，使得制造出来的芯片具有更高的工艺精度。

除此之外，我们在国产光刻机方面也不断取得了突破。在借助光刻设备方面，上海微电子已经拥有制造90纳米光刻设备的能力，在进一步将会在28纳米光刻机上面进行突破。经过将近半年的沉淀之后，这款28纳米光刻机预计将会在今年年底正式下线。

而在先进光刻设备之中，清华大学与德国联邦技术学院进行了合作，提出并且验证了一种新型粒子加速器“稳态微拘束”的实验演示，验证了ssmb的工作原理，能够覆盖光刻机所需要的EUV波段。

可以说，这样看起来国内在光刻机领域之中已经取得了一定的突破，可要知道，去年芯片禁令实施之后，中国曾经宣布要全面进军半导体领域，包括芯片制造以及芯片制造，关键设备光刻机领域

阿斯麦台积电接连泼来冷水

就在这个时候，阿斯麦公开表态表示，即便是给出中国图纸，中国也未必能够造出一模一样的光刻机来。更让人气愤的是台积电张忠谋也曾经表示，全球没有任何一个企业或者国家能够建立起完整的半导体产业链，并且还同时能够保持竞争力，国内自研光刻机的选择是不明智的，应该专注于芯片设计，而芯片代工的工作交给台积电来做就好了。

可如今我们在光刻机领域之中取得了突破，可以说，台积电和阿斯麦纷纷被打脸，其实阿斯麦和台积电之所以会发出这样的言论，不过就是不想让国内在半导体领域之中拥有更好的发展，一旦中国掌握了芯片代工技术以及光刻机技术，那么在未来的发展之中，台积电和阿斯美将会失去全球最大的半导体市场，这对于他们来讲是不能够接受的。

之前北大教授林毅夫曾经表示，三年之内我们就能够突破EUV光刻设备。这句话并不是吹牛，而是有事实根据，如今这些事实已经摆在了我们面前，这就意味着国产高端光刻设备的研发正在不断地推进，最后的结果只能是狠狠地打了台积电以及的脸。

美想要通过芯片断供来遏制中国高科技发展，阿斯麦和台积电接连泼来冷水，这对于我们其实都是一种激励，如果没有当初芯片禁令的实施，那么相信中国也不会意识到我们在的芯片制造领域之中所面临的短板，更不会全面扎根于半导体领域；如果台积电以及阿斯麦的泼冷水，我们也不会意识到原来我们对于国外企业依赖居然有这么严重，更不会在芯片代工以及光刻机领域之中开始不断的破冰。

能够预见的事，在将来，中国一定还是全球最大的半导体市场，只是彼时的全球最大半导体市场中国，早就已经不再是如今能够随意被别人卡脖子的中国，而是真正拥有自己技术，真正拥有技术实力的中国，没有人再能够通过卑鄙的手段卡住我们向高科技发展的脖子，也没有任何人能够阻挡中国前进的步伐。