光刻机作为生产芯片最为关键的设备，对制造业的发展有着至关重要的作用。就当下市场来看，世界上先进的光刻机，尤其是EUV高端光刻机，几乎全部出自荷兰ASML手中，ASML绝对是光刻机行业中绝对的霸主所在。尤其是在当下世界各国芯片都处于缺货，各大芯片制造企业纷纷扩能的基础上，ASML和光刻机显得更为重要。

然而我国在光刻机上却存在巨大的不足，芯片行业发展之所以如此落后，很大一部分原因都是因为光刻机。为此，去年中科院专门成立了相应的专项研究小组进行攻克，争取早日掌握光刻机技术，从而全面实现芯片自主化，不再看任何国家、任何企业的脸色。

吃里扒外？ASML国内申请2900项专利，多数为中国团队研发。

不过自从去年开始，ASML就不断向中国示好，甚至采取了一系列行动看起来似乎是在帮助中国，其总裁更是在前不久表示，会尽一切可能帮助中国突破光刻机难题。然而比较讽刺的是，中国在数年前购买的EUV光刻机至今仍然没有收到货，ASML前不久更是加入了“老美的半导体联盟”中。ASML究竟站在哪一队，已经一目了然，毕竟它很多关键技术以及原材料都被牢牢地掌控在手中。只不过中国每年高达万亿的芯片市场使得它不愿意放弃罢了，尽一切能力在周旋，从而最大化保持自己的利益。有消息传来ASML之后将在中国获得2900多项专利，并且这些专利中有很多都是中国团队拿到的，这又是怎么回事呢？

为了更好地打开中国市场，并且加速自己在光刻机上的研究，ASML曾在深圳设立了研发中心，招揽了不少中国专家为其服务。就目前为止，ASML在中国申请的专利已经高达2000多项，而未来更是会直接达到2900多项。ASML雇佣中国人才，将获得2900多项专利，我国会再次陷入被动吗？

如果是站在短期芯片市场上来看的话，那么ASML在中国申2900多项专利技术利大于弊。这进一步说明了ASML大力布局中国市场的打算，而在中国申请的专利很大程度上也是优先服务中国企业，未来我们将获得更多ASML提供的光刻机，极大地解决产能不足的问题，并且会加速芯片先进工艺的攻破和既有工艺的完善。

但是站在长远角度看的话，ASML在中国获得2900多项光刻机专利俨然是不利的，意味着未来即使中国光刻机获得了完全突破，能够自主化生产，也将会受到ASML的牵制，再次陷入到被动之中。不难想象，这2900多项专利一定有不少是当下所有光刻机技术绕不过的，是其基础所在。即使未来中国光刻机技术超过了ASML，还要向人家缴纳专利费，甚至一言不合断供我们，对中国发展造成极大的影响。

从相关消息来看，其实这也是我国半导体行业巨大潜力的展现。前不久，上海微电子传来28nm光刻机技术取得关键突破的消息，ASML就坐不住了，足以见得上海微电子在光刻机上的成就已经令所有人感到了中国带来的威胁。同时，2900多项专利大都来自中国团队，虽然让人感到痛心，自己国家的人才跑到外企中服务并取得巨大成就，着实是一种讽刺和难过。但同时也说明中国人在半导体上所拥有的能力。其实世界上位于前十的半导体专家中，超过一半都属于华人。也就是说我国人才培养和成长不用过于担心，应该担心的是如何留住人才。

不过不论最终的结果如何，当下我们都不能放弃自主研发的道路，已经吃过一次亏的我们决不能再吃第二次。虽然科研创新投入回报周期过长，但这才是真正的利益，才能让自己长久立于不败之地。当下一个企业，一个国家的高度如何，主要就看在科研方面如何。“造不如买，买不如租”的时代已经彻底过去，中国不可能一辈子为别人“打工”，技术掌握在自己手中，才是真正的实力，才会有更大的底气和发展的空间。