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  • 浅析CMOS与CCD在内部结构与原理的差异

    　　无论任何产品，品质的好坏主要取决于性能的优劣，而性能优劣的关键跟产品结构和工作原理又有着较大的关系，CCD和CMOS也既如此。 　　基本组成 　　CCD是在MOS晶体管的基础上发展起来的，其基本结构是MOS（金属—氧化物—半导体）电容结构。它是在半导体P型硅（Si）作衬底的表面上用氧化的办法生成一层厚度约1000？~1500？的SiO2，再在SiO2表面蒸镀一层金属（如铝），在衬底和金属电极间

    mos电容器

    zol . 2012-07-31 1145

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