3月9日，ASML就荷兰政府即将限制半导体设备出口的消息发表声明。声明提到，新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。这将迫使ASML需要申请许可证才能出口最先进的浸没式DUV系统。

  尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但ASML将其解释为“关键浸没”，具体为TWINSCAN NXT：2000i和随后的浸没式DUV系统。ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以使用不太先进的浸没式光刻工具。

  ASML主流DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，后面两款是公司在声明所指的产品。NXT:1980Di多被用于生产14nm及以上工艺的芯片。

  ASML已经被限制出口EUV，现在还被限制出口先进DUV，究竟这家半导体设备制造商在产业链处于什么水平？

2022年晶圆制造设备销冠另有其人

  芯查查企业SaaS产业链地图显示，晶圆制造设备2022年TOP10排名第一的是应用材料公司。

  公告显示，2022财年全年，应用材料公司共实现营收257.9亿美元。基于GAAP，公司毛利率为46.5%，营业利润为77.9亿美元，占净销售额的30.2%，每股盈余为7.44美元。公司全年实现经营活动现金流54亿美元，通过61亿美元的股票回购和8.73亿美元的股息派发向股东返还69.8亿美元。

  ASML 2022年净销售额为212亿欧元（227.15亿美元），毛利率为50.5%，净利润为56亿欧元（60亿美元）。季度末现金及现金等价物及短期投资2022年为73.76亿欧元（79.03亿美元）。

  从营收/销售、利润来看，应用材料表现要好于ASML；现金流ASML要比应用材料多一点；资产负债没有在公告中表现。综合看2022年业绩应用材料排名第一。

以14nm为目标，哪些国产设备厂商值得关注？

  荷兰政府没有明确定义限制出口的先进DUV设备，ASML的表态有商业考虑。从极限情况来看，倘若所有DUV被限制，那一个问题是哪些国产设备可以替代。

  资料显示，目前光刻机国产化率约为1.1%，对于高端浸没式DUV（ArFi）和EUV 设备还尚未国产替代。目前浸没式DUV（ArFi）光刻机全球主要厂商是荷兰ASML和日本尼康，尼康的NSR-S631E/NSR-S621D分别对标ASML的NXT2000i/NXT1950i，ASML对比尼康在设计合理度、生产速度、良品率上领先。目前国内仅有上海微电子可以量产光刻机，其目前最先进的产品为ArF Dry光刻机，可支持90nm制程，同时其在研的28nm ArFi光刻机SSA800/10有望在2023年实现交付。

  总的来说，尽管存在巨大的进入壁垒，我国政府将依然会重点支持本土的半导体设备行业，因为只有大力提高中国大陆半导体设备供应商的竞争力，才能保障我国半导体产业链安全具有显著的溢出效益，有助于降低外部因素所带来的风险。

  芯查查企业SaaS（XCC.COM）产业链图谱涵盖IC设计、晶圆加工、半导体设备制造、半导体材料、封装测试、分销代理、终端应用七大环节，23个细分领域可以穿透性全景动态呈现。