10月7日消息，佳能公司日前宣布将在宇都宫地区新建工厂，扩大其半导体光刻设备产能。

  公司方面表示，此举是为了应对中长期需求的增长，新工厂计划投资额约380亿日元，占地面积约7万平方米，计划在2023年下半年开工，2025年上半年建成投产，这也是该公司21年来首度扩产。

  报道称，该工厂除了生产其现有的光刻机系列产品，还将生产纳米压印光刻设备。

  目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻机降低40%，能耗减少90%，有望成为EUV光刻的替代工艺。

图片来源：佳能