半导体硅基板的蚀刻方法简介

来源: 华林科纳半导体设备制造 作者:华林科纳半导体设 2022-03-24 19:35:05

  本文是为了在Si基板蚀刻制造金刚石时提高制造收率,为此,将半导体Si基板接入阳极,将Pt电极接入阴极后,在pt电极用跳汰机内放入氮气泡泡器,旋转对向的正电极上外部认可电压,泡泡器内吹入氮气,在加温的蚀刻溶液内进行蚀刻。(图3、图4)

  在连接到阳兢的半导体硅基板上,将连接到阴极的铂线缠绕在夹子上的铂电极对向,在夹子中放入氮气泡泡,通过该泡泡注入地素的半导体硅基板的蚀刻方法,一种半导体硅基板的蚀刻方法,使氮气泡沫器与氮气注入一起旋转。

审核编辑:符乾江

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