新一代功率半导体材料氧化镓在150毫米晶圆上成功沉积

来源：芯闻路1号作者：北极星蜥蜴姐 2022-03-09 14:01:53

3月9日消息，日本Novell Crystal Technology公司（琦玉县狭山市，总裁仓俣昭人）成功地沉积了一块150毫米的氧化镓晶片，这是一种下一代功率半导体材料。沉积设备是与大阳日酸（东京都品川区）和东京农业技术大学共同开发和制造的。该公司的目标是在2024财政年度实现薄膜沉积的大规模生产设备的商业化。

已经投入实际使用的唯一的薄膜沉积设备，用于在氧化镓晶圆上均匀地形成层，称为epi，是一种单晶圆类型，在直径达约100毫米的晶圆上逐一形成薄膜。新开发的沉积设备能够在多个150毫米晶圆上沉积薄膜，作为NEDO战略节能技术创新计划项目的一部分而开发。