3月9日消息，日本Novell Crystal Technology公司（琦玉县狭山市，总裁仓俣昭人）成功地沉积了一块150毫米的氧化镓晶片，这是一种下一代功率半导体材料。沉积设备是与大阳日酸（东京都品川区）和东京农业技术大学共同开发和制造的。该公司的目标是在2024财政年度实现薄膜沉积的大规模生产设备的商业化。
已经投入实际使用的唯一的薄膜沉积设备，用于在氧化镓晶圆上均匀地形成层，称为epi，是一种单晶圆类型，在直径达约100毫米的晶圆上逐一形成薄膜。新开发的沉积设备能够在多个150毫米晶圆上沉积薄膜，作为NEDO战略节能技术创新计划项目的一部分而开发。
Novell Crystal Technology成立于2005年。它是田村公司的一个子公司，从事半导体的开发工作。
图片来源：yahoo
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