处理器龙头英特尔8 日宣布，计划10 年内在欧洲新建造至少两家晶圆厂，投资金额高达950亿美元，同时更新爱尔兰晶圆厂，当成专门生产车用芯片的据点。《华尔街日报》指出，英特尔救星的确在欧洲，但并非晶圆厂，而是需从艾司摩尔（ASML）获得尖端设备，缩小与台积电的差距。
小编认为，如果想拉近跟台积电的差距，不光是建造更多工厂，很大程度取决于能否能从荷兰商ASML 获得下一代芯片制造设备。ASML是全球唯一量产极紫外光光刻机（EUV）的厂商，台积电、三星、英特尔先进制程都依赖EUV 光刻机生产。
英特尔7 月正式揭露制程与封装技术最新蓝图时，就强调迅速转往下世代EUV 工具计划，称为高数值孔径（High NA）EUV，英特尔有望获得业界首款High NA EUV 量产设备。英特尔首席执行官帕特·基尔辛格（Pat Gelsinger）也在7 月提到两家公司的长期合作关系，他表示，一旦最新EUV 设备上市，英特尔就会立即采用。
现阶段每台EUV 光刻机单价将近1.5 亿美元，但ASML 的EUV 光刻机目前出货都是光源波长13.5 纳米左右的第一代产品，物镜NA 数孔径是0.33，据ASML 表示，第二代EUV光刻机已进入开发阶段。
ASML 第二代EUV 光刻机型号是NXE:5000 系列，物镜NA 值升到0.55，提高曝光精准度。第二代EUV 光刻机研发阶段曾遭遇瓶颈，所幸神队友东京电子（东京威力科创Tokyo Electron）救援，双方联合发展下一代EUV 光刻机生产，目前预计仍维持2023 年问世。
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