[原创] 摩尔定律到底还能走多远？

来源：来源: 官方微信作者：责任编辑：官方微信 2018-05-30 14:00:08

近日，三星公布了其半导体工艺路线图，除了今年下半年使用EUV的7nm量产之外，接下来还将有5nm和4nm FinFET，而到了2020年则会开始3nm基于Gate All-Around （GAA）晶体管的最新工艺。除此之外，ASML则确认了其光刻机使用EUV加上大数字孔径可以实现1.5nm的特征尺寸从而可望支持摩尔定律发展到2030年。近些年来，“摩尔定律接近尾声”的声音不绝于耳，而这些消息却像是给摩尔定律打了一剂强心针，至少在技术上我们还能继续把特征尺寸缩小这件事继续做几年。