下一代晶体管露脸

来源: 本站整理 作者:佚名 2009-08-31 11:28:00

下一代晶体管露脸

ATDF 公司和HPL 公司最近展示了面向多栅场效应晶体管(MuGFET)的45nm 技术节点上的
工艺能力,MuGFET 这种先进的半导体器件最终可能取代传统的CMOS 晶体管。
ATDF 在HPL 的试验芯片部的协助下生产这种半导体,该部门用其建立试验芯片的基础设施
和项目管理技术,协助ATDF 满足超常的标线设计交付需求。
随着 MuGFET 开发项目第一阶段的结束,ATDF 已经可以向任何需要采用这种工艺技术的公
司提供试验芯片.其他的项目实施阶段将解决论证实验中出现的制造问题,如门限电压跌落。
与传统的 CMOS 器件相比,MuGFET 被看做是实现与摩尔定律保持步调一致以及满足国际半
导体技术路线图(ITRS)需求的可选器件。

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